半導體大廠艾司摩爾ASML推出最新高數值孔徑極紫外光EUV曝光機，馬上被英特爾采用，但臺積電仍在觀望。外媒認為此事將是英特爾重拾霸主地位的狹窄破口，如同當年英特爾并未馬上搶進第一代EUV機臺，而臺積電大舉投資EUV設備。
美國科技媒體wccftech報導，英特爾打算在18A（1.8奈米）制程中試驗ASML的高數值孔徑極紫外光EUV技術，甚至考慮直接應用在14A（1.4奈米）的制造流程中。
相較之下，臺積電并未跟進，原因可能是考量每臺高數值孔徑EUV微影機的高昂成本，每臺售價高達3.85億美元相當可觀。
外媒示警，臺積電可能會重蹈英特爾的覆轍，先前英特爾就因為保守的財務政策，推遲大舉投資EUV機臺的時間點，臺積電則在那區間大舉投資，一下子就拉開技術差距，收獲甜美果實。
即使如此，外媒也提到，英特爾執行長季辛格（Pat Gelsinger）將逆轉勝的關鍵寄托在最新的EUV機臺，其實部分成本是由美國人共同承擔，英特爾拿到巨額芯片法案補助，讓英特爾將成本社會化，當然后續成果也受到美國社會高度檢視。
來源：中時新聞網
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